產品介紹
CT-Nano 多工光學檢測機
● 可處理高亮面材質
● 可應用於具穿透特性之材質
● 高解析能力，可量測 Pillar/Bump 高度≧ 2 μm、直徑≧ 15μm
● 高速性能，全域掃描 (針對12吋晶圓，UPH > 15 pcs/h)
● 可應用於具穿透特性之材質
● 高解析能力，可量測 Pillar/Bump 高度≧ 2 μm、直徑≧ 15μm
● 高速性能，全域掃描 (針對12吋晶圓，UPH > 15 pcs/h)
● 2D + 3D 多重量測功能
● 視野 (FOV)：15 x 15 mm
● 3D高度解析度 (μm)：0.05
● 重複精度 (μm) (3σ)：1
● 準確度 (μm)：0.2
● 高度量測範圍 (mm)：0.25
CT-Nano 多工光學檢測機
● 可處理高亮面材質
● 可應用於具穿透特性之材質
● 高解析能力，可量測 Pillar/Bump 高度≧ 2 μm、直徑≧ 15μm
● 高速性能，全域掃描 (針對12吋晶圓，UPH > 15 pcs/h)
● 可應用於具穿透特性之材質
● 高解析能力，可量測 Pillar/Bump 高度≧ 2 μm、直徑≧ 15μm
● 高速性能，全域掃描 (針對12吋晶圓，UPH > 15 pcs/h)
● 2D + 3D 多重量測功能
● 視野 (FOV)：15 x 15 mm
● 3D高度解析度 (μm)：0.05
● 重複精度 (μm) (3σ)：1
● 準確度 (μm)：0.2
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