產品介紹
微波電漿去膠渣設備
●優越的電漿去膠渣技術-去除雷射鑽孔完成後所形成膠渣遮蔽導電銅層現象
●高效率電漿設計-使用高度指向性微波電漿+偏壓射頻電漿源
●豐富客製化機型-依據基板尺寸提供多樣化設備構型
●高效率電漿設計-使用高度指向性微波電漿+偏壓射頻電漿源
●豐富客製化機型-依據基板尺寸提供多樣化設備構型
●機台構型
自動化 Tray+Auto Trans
自動化 Magazine+in line
●機台能力
適用基板尺寸 ≦600*600 mm
蝕刻速率 ≥10μm/min
●微波電漿源
頻率 2450MHz
磁控頭 1-2
產生機制 Array antenna
●射頻電漿源
頻率 13.56MHz
電漿型態 RIE
●運作條件
製程氣體 O2/CF4/Ar/N2
真空幫浦 Dry pump
自動化 Tray+Auto Trans
自動化 Magazine+in line
●機台能力
適用基板尺寸 ≦600*600 mm
蝕刻速率 ≥10μm/min
●微波電漿源
頻率 2450MHz
磁控頭 1-2
產生機制 Array antenna
●射頻電漿源
頻率 13.56MHz
電漿型態 RIE
●運作條件
製程氣體 O2/CF4/Ar/N2
真空幫浦 Dry pump
微波電漿去膠渣設備
●優越的電漿去膠渣技術-去除雷射鑽孔完成後所形成膠渣遮蔽導電銅層現象
●高效率電漿設計-使用高度指向性微波電漿+偏壓射頻電漿源
●豐富客製化機型-依據基板尺寸提供多樣化設備構型
●高效率電漿設計-使用高度指向性微波電漿+偏壓射頻電漿源
●豐富客製化機型-依據基板尺寸提供多樣化設備構型
●機台構型
自動化 Tray+Auto Trans
自動化 Magazine+in line
●機台能力
適用基板尺寸 ≦600*600 mm
蝕刻速率 ≥10μm/min
●微波電漿源
頻率 2450MHz
磁控頭 1-2
產生機制 Array antenna
●射頻電漿源
頻率 13.56MHz
電漿型態 RIE
●運作條件
製程氣體 O2/CF4/Ar/N2
真空幫浦 Dry pump
自動化 Tray+Auto Trans
自動化 Magazine+in line
●機台能力
適用基板尺寸 ≦600*600 mm
蝕刻速率 ≥10μm/min
●微波電漿源
頻率 2450MHz
磁控頭 1-2
產生機制 Array antenna
●射頻電漿源
頻率 13.56MHz
電漿型態 RIE
●運作條件
製程氣體 O2/CF4/Ar/N2
真空幫浦 Dry pump
